ASTM F 1894-1998 定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法
作者:标准资料网 时间:2024-05-12 21:57:57 浏览:8015
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【英文标准名称】:TestMethodforQuantifyingTungstenSilicideSemiconductorProcessFilmsforCompositionandThickness
【原文标准名称】:定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1894-1998
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:1998
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:定量分析;硅化钨分析;背散射分析;金属膜;组分
【英文主题词】:quantitativeanalysis;composition;analysisoftungstensilicide;backscatteringanalysis;metallizationfilms
【摘要】:
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:
【页数】:
【正文语种】:英语
【原文标准名称】:定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1894-1998
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:1998
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:定量分析;硅化钨分析;背散射分析;金属膜;组分
【英文主题词】:quantitativeanalysis;composition;analysisoftungstensilicide;backscatteringanalysis;metallizationfilms
【摘要】:
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:
【页数】:
【正文语种】:英语
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